诸暨科技馆位于诸暨市城东新城中心区域，东二路和东旺路交叉口，北邻西施大剧院，与已开放的诸暨市城市馆为同一主体建筑。其建筑形态为简洁大方的方形现代建筑，建筑物总高28.45米。科技馆参观者由建筑物一层东侧入口进入门厅（门厅面积约平方米），然后乘扶梯直达第三层，第三层总建筑面积为平方米。目前诸暨科技馆展教工程项目已列入诸暨市年重大项目前期计划，估算总投资万元。
诸暨科技馆将以“县市领先、诸暨特色、面向未来”为建设目标，打造成为一个集科普展示与教育、科技成果展示、学术交流、会议接待等功能于一体的中型综合性展馆。为彰显地方特色，塑造诸暨科技馆形象，现面向社会公开征集诸暨科技馆标志（LOGO）设计方案。
2活动对象和时间（一）本次活动面向全社会，LOGO设计征集以个人名义和团体名义提交作品均可。
（二）活动时间：即日起至年9月10日止。
3logo设计内容和要求一切符合现代科技馆规范要求，能够体现诸暨科技馆主题思想，集科学、探索、创新精神，以及诸暨特色、时代特征和艺术感染力为一体的标志设计方案都在征集范围。
（一）标志设计要求
1.设计作品应充分体现诸暨科技馆的内涵和特色。
2.设计应以抽象的艺术形式表现，主题突出，构图简洁、创意新颖、寓意深刻、内涵积极，辨识度高，易于传播，富于视觉感染力和冲击力，直观地展现科技馆的美感与科技感。
3.设计在表现形式和技术手段上，应用性强，适用于平面、立体再创作，可用于网站、文件、宣传用品和媒体宣传等各场合和载体上使用。
4.创意设计方案必须是原创，并应当明显区别于其他国内外其它组织机构所采用的标志，具有独特性。如有抄袭，作者承担全部责任。
（二）标志方案组成
1.作品核心设计方案。
2.作品设计创意理念说明。
3.标志、标志与文字(中文名称：诸暨科技馆、英文名称：ZhuJiScienceandTechnologyMuseum缩写ZJSTM)组合及标准图形。
4.用独立的一个A4页面WORD文档说明设计者的姓名、职业、身份证号码、联系方式等。不得在设计图稿中出现上述个人资料。
4LOGO设计内容提交要求（一）应征标志作品应以电子文本、光盘刻碟或U盘形式提交，电子邮件：以附件形式发送至zjzjkx
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